?近日，北方華創(chuàng)微電子參加了“中國第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟”(CASA)主辦的一系列在線論壇活動，吸引了兩千余名產(chǎn)業(yè)鏈上下游相關(guān)人士及行業(yè)專家通過網(wǎng)絡(luò)研討交流。
??北方華創(chuàng)第一刻蝕事業(yè)部張軼銘博士發(fā)表了題為《面向化合物半導(dǎo)體芯片的刻蝕裝備》的報告，重點介紹了北方華創(chuàng)在化合物半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的特色刻蝕裝備與工藝解決方案。
??北方華創(chuàng)GDE C200刻蝕機通過獨特的腔室設(shè)計與工藝開發(fā)，展現(xiàn)出優(yōu)異的 SiC背孔/SiC trench刻蝕的量產(chǎn)性能，具有刻蝕速率快、MTBC長、Pillar缺陷少、Wafer表面溫度低、均勻性好、選擇比高、工藝窗口寬等一系列優(yōu)點，完美適用于GaN-on-SiC RF、SiC功率等器件的量產(chǎn)。
??北方華創(chuàng)另一款產(chǎn)品GSE C200刻蝕機已服務(wù)于多個著名Foundry/IDM工廠，它擁有超強的工藝兼容性，適用于GaN/SiNx低損傷刻蝕 、GaAs背孔/Mesa刻蝕、InP Wave-guide/Grating刻蝕等刻蝕工藝，在GaN功率、GaAs RF/VCSEL、InP、FBAR/SAW/BAW濾波器等器件的生產(chǎn)方面，為客戶展示了十分穩(wěn)定的量產(chǎn)能力。
??此外，北方華創(chuàng)在深硅刻蝕工藝上也獲得了海外市場的認(rèn)可，型號為HSE系列的等離子刻蝕機具備高等離子密度，可達成高速、高深寬比、高均勻性刻蝕，目前該設(shè)備已全面服務(wù)于深硅刻蝕量產(chǎn)工藝。
??隨著萬物智聯(lián)、AIoT、大數(shù)據(jù)、云計算、汽車電子、VR/AR等領(lǐng)域的迅速發(fā)展，化合物半導(dǎo)體芯片相關(guān)產(chǎn)業(yè)將迎來大幅度增長。北方華創(chuàng)積極面向科技前沿，不斷研發(fā)新興材料的芯片制造裝備與工藝技術(shù)，以滿足不同行業(yè)與客戶的新需求。北方華創(chuàng)將繼續(xù)秉承以客戶為導(dǎo)向的持續(xù)創(chuàng)新，與客戶攜手并進，共同開拓產(chǎn)業(yè)發(fā)展的新藍圖!
